---
title: "\"ГОСТ Р ИСО 16242-2016. Национальный стандарт Российской Федерации. Государственная система обеспечения единства измерений. Химический анализ поверхности. Оже-электронная спектроскопия. Регистрация и представление данных\""
number: "ГОСТ Р ИСО 16242-2016"
issuer: "Федеральное агентство по техническому регулированию и метрологии"
status: действует
canonical: "https://bukva.ai/docs/standart-gost-r-iso-16242-2016"
---

## "ГОСТ Р ИСО 16242-2016. Национальный стандарт Российской Федерации. Государственная система обеспечения единства измерений. Химический анализ поверхности. Оже-электронная спектроскопия. Регистрация и представление данных"

# "ГОСТ Р ИСО 16242-2016. Национальный стандарт Российской Федерации. Государственная система обеспечения единства измерений. Химический анализ поверхности. Оже-электронная спектроскопия. Регистрация и представление данных"

(утв. и введен в действие Приказом Росстандарта от 01.09.2016 N 1018-ст)

> [!IMPORTANT]
> Документ [введен](#p100010) в действие с 01.11.2016.


<a id="p100001"></a>Утвержден и введен в действие
Приказом Федерального
агентства по техническому
регулированию и метрологии
от 1 сентября 2016 г. N 1018-ст

<a id="p100002"></a>**НАЦИОНАЛЬНЫЙ СТАНДАРТ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ**

<a id="p100003"></a>**ГОСУДАРСТВЕННАЯ СИСТЕМА ОБЕСПЕЧЕНИЯ ЕДИНСТВА ИЗМЕРЕНИЙ**

<a id="p100004"></a>**ХИМИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ ПОВЕРХНОСТИ**

<a id="p100005"></a>**ОЖЕ-ЭЛЕКТРОННАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ.**
**РЕГИСТРАЦИЯ И ПРЕДСТАВЛЕНИЕ ДАННЫХ**

<a id="p100006"></a>State system for insuring the uniformity of measurements.
Surface chemical analysis.
Auger electron spectroscopy (AES).
Recording and reporting data

<a id="p100007"></a>**(ISO 16242:2011,**
Surface chemical analysis - Recording and reporting data
in Auger electron spectroscopy (AES),
**IDT)**

<a id="p100008"></a>**ГОСТ Р ИСО 16242-2016**

<a id="p100009"></a>ОКС 71.040.40

<a id="p100010"></a>Дата введения
1 ноября 2016 года


### <a id="p100011"></a>Предисловие


<a id="p100012"></a>1 ПОДГОТОВЛЕН Акционерным обществом "Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума" на основе собственного перевода на русский язык англоязычной версии стандарта, указанного в [пункте 4](#p100015)
<a id="p100013"></a>2 ВНЕСЕН Техническим комитетом по стандартизации ТК 107 "Зондовая и пучковая диагностика"
<a id="p100014"></a>3 УТВЕРЖДЕН И ВВЕДЕН В ДЕЙСТВИЕ Приказом Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии от 1 сентября 2016 г. N 1018-ст
<a id="p100015"></a>4 Настоящий стандарт идентичен международному стандарту ИСО 16242:2011 "Химический анализ поверхности. Запись и представление данных в Оже-электронной спектроскопии" (ISO 16242:2011 "Surface chemical analysis - Recording and reporting data in Auger electron spectroscopy (AES)", IDT).
<a id="p100016"></a>Наименование настоящего стандарта изменено относительно наименования указанного международного стандарта для приведения в соответствие с ГОСТ Р 1.5-2012 (пункт 3.5).
<a id="p100017"></a>При применении настоящего стандарта рекомендуется использовать вместо ссылочных международных стандартов соответствующие им национальные стандарты, сведения о которых приведены в дополнительном [приложении ДА](#p100159)
<a id="p100018"></a>**5 ВВЕДЕН ВПЕРВЫЕ**
<a id="p100019"></a>6 ПЕРЕИЗДАНИЕ. Апрель 2019 г.

<a id="p100020"></a>Правила применения настоящего стандарта установлены в статье 26 Федерального закона от 29 июня 2015 г. N 162-ФЗ "О стандартизации в Российской Федерации". Информация об изменениях к настоящему стандарту публикуется в ежегодном (по состоянию на 1 января текущего года) информационном указателе "Национальные стандарты", а официальный текст изменений и поправок - в ежемесячном информационном указателе "Национальные стандарты". В случае пересмотра (замены) или отмены настоящего стандарта соответствующее уведомление будет опубликовано в ближайшем выпуске ежемесячного информационного указателя "Национальные стандарты". Соответствующая информация, уведомление и тексты размещаются также в информационной системе общего пользования - на официальном сайте Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии в сети Интернет (www.gost.ru)


### <a id="p100021"></a>Введение


<a id="p100022"></a>Оже-электронная спектроскопия (ОЭС) используется для анализа поверхности широкого круга типов тестовых образцов, включая как анализ поверхности при выполнении новых экспериментальных исследований, так и рутинный анализ поверхности. Результаты анализа должны быть записаны в стандартном формате, который должен содержать достаточно подробную информацию, чтобы можно было повторить эксперимент. Данный материал должен быть доступен, если это требуется.
<a id="p100023"></a>Экспериментальные условия и параметры сбора данных должны быть включены таким образом, чтобы можно было оценить качество данных.


### <a id="p100024"></a>1 Область применения


<a id="p100025"></a>Настоящий стандарт устанавливает минимальный объем информации, которую необходимо включать в протокол при проведении химического анализа поверхности и приповерхностных слоев исследуемого образца с помощью Оже-электронной спектроскопии.
<a id="p100026"></a>Настоящий стандарт применяют при проведении количественного и качественного анализа элементного состава исследуемых образцов.


### <a id="p100027"></a>2 Нормативные ссылки


<a id="p100028"></a>В настоящем стандарте использованы нормативные ссылки на следующие стандарты (для недатированных ссылок следует применять последнее издание приведенных стандартов):
<a id="p100029"></a>ISO 17973, Surface chemical analysis - Medium-resolution Auger electron spectrometers - Calibration of energy scales for elemental analysis (Химический анализ поверхности. Оже-электронные спектрометры умеренного разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа)
<a id="p100030"></a>ISO 17974, Surface chemical analysis - High-resolution Auger electron spectrometers - Calibration of energy scales for elemental and chemical-state analysis (Химический анализ поверхности. Оже-электронные спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа и анализа химического состояния)
<a id="p100031"></a>ISO 18115-1, Surface chemical analysis - Vocabulary - Part 1: General terms and terms used in spectroscopy (Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии)


### <a id="p100032"></a>3 Термины и определения


<a id="p100033"></a>В настоящем стандарте применены термины по ИСО 18115-1, а также следующие термины с соответствующими определениями:
<a id="p100034"></a>3.1 ex situ (ex situ): Вне аналитической системы.
<a id="p100035"></a>3.2 in situ (in situ): Внутри аналитической системы.
<a id="p100036"></a>3.3 аналитик (analyst): Специалист, непосредственно проводящий анализ.


### <a id="p100037"></a>4 Обозначения и сокращения


<a id="p100038"></a>В настоящем стандарте применены следующие обозначения и сокращения:

#### <a id="p100039"></a>4.1 ОЭС: Оже-электронная спектроскопия.

<a id="p100040"></a>4.2 KLL: Сокращенное обозначение для Оже-линии, полученной в результате образования электронной вакансии в K-оболочке, перехода электрона с L-оболочки в вакансию K-оболочки и одновременного испускания Оже-электрона с L-оболочки.
<a id="p100041"></a>4.3 KVV: Сокращенное обозначение для Оже-линии, полученной в результате образования электронной дырки в K-оболочке, перехода электрона из валентной зоны ("V") в вакансию K-оболочки и одновременного испускания Оже-электрона из валентной зоны.
<a id="p100042"></a>Аналогичные сокращения использованы для L, M и последующих Оже-серий.


### <a id="p100043"></a>5 Уровни записи и представления данных



#### <a id="p100044"></a>5.1 Общая информация


<a id="p100045"></a>Настоящий стандарт устанавливает минимальный объем информации, которая должна быть записана и включена в протокол аналитиком, проводящим анализ исследуемого образца с использованием ОЭС. Уровни записей подразделяются на шесть основных областей:
<a id="p100046"></a>a) лабораторный журнал аналитика или электронный журнал (например, компьютерная система хранения данных);
<a id="p100047"></a>b) спектры;
<a id="p100048"></a>c) количественный анализ образца;
<a id="p100049"></a>d) профили распределения элементов по глубине;
<a id="p100050"></a>e) карты элементов, линейные сканы;
<a id="p100051"></a>f) химическая информация, полученная при анализе образца.


#### <a id="p100052"></a>5.2 Запись аналитика



##### <a id="p100053"></a>5.2.1 Идентификация и подготовка образца

<a id="p100054"></a>Лабораторный или электронный журнал должен содержать для каждого образца следующую информацию (должна быть записана достаточная информация, позволяющая повторить измерения позднее):
<a id="p100055"></a>a) наименование и контактный адрес лаборатории или заказчика, предоставляющего образец, электронный адрес и номер телефона, если таковые имеются;
<a id="p100056"></a>b) уникальный номер образца.
<a id="p100057"></a>*Примечание* - Уникальный номер - это номер исследуемого образца, присваиваемый в аналитической лаборатории и не используемый для каких-либо других образцов;

<a id="p100058"></a>c) описание образца до и после проведения анализа (в том числе сведения о его внешнем виде, шероховатости, цвете и других отличительных чертах);
<a id="p100059"></a>d) дата проведения измерений;
<a id="p100060"></a>e) данные аналитика, наименование организации и подразделение в организации, где работает аналитик;
<a id="p100061"></a>f) все детали относительно ex situ подготовки образца до проведения анализа (включая детали о методе крепления лентой или зажимом, ориентацию на держателе образца относительно каких-либо конкретных особенностей поверхности, был ли образец разрезан, и если так, то каким образом; подробную информацию о любых очистках растворителем и т.д.) (см. [примечание 1](#p100063));
<a id="p100062"></a>g) все детали относительно in situ подготовки образца до проведения анализа (соответствующие данные включают очистку ионами инертного газа, нагрев образца, раскол образца и т.д.) (см. [примечание 2](#p100064)).
<a id="p100063"></a>*Примечание* 1 - Руководство по подготовке и креплению образцов приведено в ИСО 18116.
<a id="p100064"></a>*Примечание* 2 - Обращение с образцами, предшествующее анализу, описано в ИСО 18117.


##### <a id="p100065"></a>5.2.2 Условия анализа

<a id="p100066"></a>Подробный перечень условий анализа должен быть записан в лабораторном и/или электронном журнале (должна быть записана достаточная информация, позволяющая повторить измерения позднее). Информация должна включать:
<a id="p100067"></a>a) наименование или идентификацию используемого оборудования;
<a id="p100068"></a>b) первичную энергию электронного пучка и угол падения;
<a id="p100069"></a>c) ток, текущий через образец, или ток пучка;
<a id="p100070"></a>d) тип детектора, число детекторов и, в случае многоканальных детекторов, режим работы;
<a id="p100071"></a>e) энергетическое разрешение анализатора;
<a id="p100072"></a>f) коэффициент замедления спектрометра или энергию пропускания спектрометра, ширину щели, если это применимо;
<a id="p100073"></a>g) угол, задающий направление регистрации информативного сигнала, использованный при выполнении измерений;
<a id="p100074"></a>h) давление в аналитической камере до и в течение анализа;
<a id="p100075"></a>i) диаметр пучка в условиях проведения анализа, если это имеет отношение к анализу, например для получения изображения или картирования (если пучок осуществляет сканирование во время сбора информации, указать диапазон сканирования);
<a id="p100076"></a>j) начальную энергию;
<a id="p100077"></a>k) конечную энергию или диапазон сканирования и количество циклов;
<a id="p100078"></a>l) число точек данных, выраженное как целое число или как число вольт/шаг, и ширину энергетического канала;
<a id="p100079"></a>m) время сбора данных, выраженное либо как время/шаг, либо как полное время с указанием времени измерения и длительности облучения пучком;
<a id="p100080"></a>n) данные об аналоговой модуляции, когда осуществляется сбор данных в аналоговом дифференциальном режиме.
<a id="p100081"></a>Вся вышеуказанная информация впоследствии должна быть передана аналитиком, проводящим анализ, заказчику по его запросу вместе с анализом ОЭС данных. Заказчик и аналитик установят формат, используемый для передачи этой информации. Например, экспериментальная информация может содержаться в приложении или в экспериментальной части протокола.
<a id="p100082"></a>Калибровка Оже-электронных спектрометров должна быть выполнена в соответствии с ИСО 17973 или ИСО 17974 или с помощью метода калибровки, указанного в документах изготовителя.


#### <a id="p100083"></a>5.3 Спектры


<a id="p100084"></a>Все ОЭС-спектры, поставляемые заказчику, должны содержать следующую минимальную информацию:
<a id="p100085"></a>a) пик или обозначения области, например Cu KLL;
<a id="p100086"></a>b) обозначение оси абсцисс, например кинетическая энергия E (эВ);
<a id="p100087"></a>c) метки на оси абсцисс, показывающие энергию как диапазон сканирования, например точки от 0 до 1200 эВ, или как энергию, соответствующую цене деления шкалы;
<a id="p100088"></a>d) обозначение оси ординат, которое для спектров, зарегистрированных непосредственно, может быть, например, числом отсчетов в секунду или числом отсчетов; для данных, полученных путем вычисления производной dC/dE, где C - число отсчетов, обозначение оси ординат должно содержать ссылку на то, применялась ли коррекция функции пропускания;
<a id="p100089"></a>e) для спектров, зарегистрированных непосредственно, метки на оси ординат, показывающие интенсивность как число отсчетов в секунду или число отсчетов на деление (см. примечание);
<a id="p100090"></a>f) подробную информацию обо всех функциях обработки данных, примененных к необработанному спектру, таких как дифференцирование, сглаживание, коррекция функции передачи, удаление резких выбросов.
<a id="p100091"></a>*Примечание* - Для спектров, полученных путем вычисления производной, можно использовать метки на оси, но сама ось номинально является безразмерной.

<a id="p100092"></a>Дальнейшая информация может быть включена по желанию аналитика или по просьбе заказчика. Примеры спектров приведены в приложении А (см. [рисунки А.1](#p100138) - [А.4](#p100147)).


#### <a id="p100093"></a>5.4 Количественная информация


<a id="p100094"></a>При обработке ОЭС-данных и передаче их заказчику в виде количественных данных, следующая информация о способе получения количественных данных также должна быть доступна заказчику, если потребуется:
<a id="p100095"></a>a) количественная модель, например однородное твердое тело; однородное твердое тело, покрытое слоем загрязнения; твердое тело, содержащее слои;
<a id="p100096"></a>b) интенсивность для выбранного параметра, например площадь пика, высота пика, разностная высота пиков, разностная высота пика относительно уровня фона (см. примечание);
<a id="p100097"></a>c) подробная информация об элементах, включенных в количественный анализ, и элементах, намеренно исключенных;
<a id="p100098"></a>d) тип фонового сигнала, используемого при обработке данных, включая начальную и конечную точки, если это применимо;
<a id="p100099"></a>e) функция пропускания анализатора, используемые коэффициенты чувствительности и их источник, например от изготовителя, внутренние стандарты, теория;
<a id="p100100"></a>f) любые другие использованные поправочные термины и их обоснование, например мертвое время (время, в течение которого система не способна зарегистрировать новый фотон из-за обработки результата воздействия предыдущего), энергетическое окно пропускания спектрометра, шероховатость образца, матричные эффекты;
<a id="p100101"></a>g) подробная информация об использованных методах обработки данных, таких как факторный анализ или метод наименьших квадратов;
<a id="p100102"></a>h) оценка погрешности в количественном анализе, рассмотренная, например, в ИСО 20903.
<a id="p100103"></a>*Примечание* - Методы, используемые для определения интенсивности пиков, и информация, необходимая для составления протокола, описаны в ИСО 20903.


#### <a id="p100104"></a>5.5 Профили распределения элементов по глубине


<a id="p100105"></a>Профили распределения элементов по глубине могут быть представлены с помощью монтажа спектров, каждый из которых соответствует определенной глубине; либо в виде профилей распределения по глубине, полученных из площади пиков; либо из измерения разности высот пиков, присутствующих на спектрах, полученных в результате вычисления производной. Если данные получены количественно, следует принять в расчет факторы, перечисленные в [5.4](#p100093), и отметить их там, где это применимо. Кроме того, должен быть записан метод количественного определения глубины при выполнении профилирования по глубине с помощью ОЭС и послойного ионного распыления (глубину можно оценить, используя скорость ионного распыления стандартного образца, такого как Ta2O5 на тантале или SiO2 на кремнии при тех же условиях эксперимента; глубину можно также измерить непосредственно с помощью профилометра) (см. [рисунки А.5](#p100152) и [А.6](#p100154) приложения А).
<a id="p100106"></a>*Примечание* - Измерение глубины распыления при профилировании по глубине описано в ИСО/ТО 15969.

<a id="p100107"></a>При получении профилей распределения элементов по глубине из клиновидных сечений или кратеров, имеющих вид мелких углублений, глубина может быть оценена путем геометрического расчета.
<a id="p100108"></a>Следующая информация должна быть доступна и, если необходимо, предоставлена вместе с профилями распределения элементов:
<a id="p100109"></a>a) обозначение оси ординат, например атомная доля (вместе с информацией о количественном анализе, как приведено в [5.4](#p100093)) или номинальное число отсчетов, если использованы спектры, зарегистрированные непосредственно;
<a id="p100110"></a>b) метки на оси ординат, показывающие атомную долю или, для спектра, зарегистрированного непосредственно, число отсчетов или просто шкалу в условных единицах;
<a id="p100111"></a>c) обозначение оси абсцисс, т.е. время распыления или расчетная глубина;
<a id="p100112"></a>d) метки на оси абсцисс, показывающие время или глубину;
<a id="p100113"></a>e) для профилей, полученных при ионном распылении, скорость распыления и материал, используемый для калибровки скорости распыления;
<a id="p100114"></a>f) информация об энергии ионного пучка и силе тока;
<a id="p100115"></a>g) информация о площади образца, подвергшейся распылению, и о размерах области сканирования, если это применимо.


#### <a id="p100116"></a>5.6 Карты и линейные сканы


<a id="p100117"></a>Если предоставляются Оже-карты или линейные сканы (см. приложение А, [рисунок А.7](#p100155)), следующая дополнительная информация в случае необходимости также должна быть предоставлена заказчику (в случае, если информация предоставляется как часть профиля распределения элементов по глубине, также следует включить информацию, перечисленную в [5.5](#p100104)):
<a id="p100118"></a>a) идентификационные данные картированного ОЭС-пика и его энергия вместе с информацией о методе удаления фона;
<a id="p100119"></a>b) информация о поле обзора карты или какой-либо включенной отметке на шкале (отметим, что предпочтительно включить информацию для обеих, X и Y, осей, так как зачастую они не эквивалентны; многие современные системы не включают информацию для оси Y, и это должно быть отмечено);
<a id="p100120"></a>c) информация о калибровке поля обзора карты по осям X и Y;
<a id="p100121"></a>d) информация о картированном свойстве, например атомной доле, вместе с цветовой шкалой, если это применимо.


#### <a id="p100122"></a>5.7 Информация о химическом состоянии


<a id="p100123"></a>Если Оже-электронные спектры анализируются для получения сведений о химическом состоянии, следующая экспериментальная информация должна быть записана и должна быть готова для передачи заказчику, если это потребуется:
<a id="p100124"></a>a) диапазон сканирования, выраженный в эВ;
<a id="p100125"></a>b) энергия (эВ) на канал;
<a id="p100126"></a>c) полуширина (полная ширина на уровне половинной интенсивности) пиков, если была измерена;
<a id="p100127"></a>d) используемая ссылка об энергиях;
<a id="p100128"></a>e) информация о полуширине пиков в спектрах стандартных образцов, анализируемых в ходе калибровки, при тех же условиях анализа;
<a id="p100129"></a>f) информация о методе синтеза пиков (в случае, когда суммарный пик включает несколько компонентов); об используемом алгоритме; о методе, используемом для определения огибающей для суммарного пика; о компонентах пика с их четкими обозначениями.
<a id="p100130"></a>*Примечание* - Процедура получения химической информации приведена в ИСО/ТО 18394.


### <a id="p100131"></a>6 Передача данных заказчику


<a id="p100132"></a>Протокол должен отвечать соответствующему нормативному документу (если таковой имеется) по отчетным результатам или соответствующим внутренним процедурам, но в любом случае должен включать в себя как минимум данные и подпись (или другой идентификационный знак или печать) аналитика и дату проведения измерений.





<a id="p100133"></a>Приложение А
(справочное)

<a id="p100134"></a>**ПРИМЕРЫ СПЕКТРОВ**

<a id="p100135"></a>Рисунки с [А.1](#p100138) по [А.4](#p100147) являются примерами спектров, отображающих данные, полученные из меди до и после ионного распыления.

<a id="p100136"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_0.jpg) 

<a id="p100137"></a>По оси X отложена кинетическая энергия электрона (эВ),
по оси Y отложено число отсчетов в секунду

<a id="p100138"></a>Рисунок А.1 - До распыления ионным пучком.
Спектр, полученный непосредственно



<a id="p100139"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_1.jpg) 

<a id="p100140"></a>По оси X отложена кинетическая энергия электрона E (эВ),
по оси Y отложена производная dC/dE, где C - число отсчетов

<a id="p100141"></a>Рисунок А.2 - До распыления ионным пучком.
Спектр, полученный путем дифференцирования



<a id="p100142"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_2.jpg) 

<a id="p100143"></a>По оси X отложена кинетическая энергия электрона (эВ);
по оси Y отложено число отсчетов в секунду

<a id="p100144"></a>Рисунок А.3 - После распыления ионным пучком.
Спектр, полученный непосредственно



<a id="p100145"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_3.jpg) 

<a id="p100146"></a>По оси X отложена кинетическая энергия электрона E (эВ),
по оси Y отложена производная dC/dE, где C - число отсчетов

<a id="p100147"></a>Рисунок А.4 - После распыления ионным пучком. Спектр,
полученный путем дифференцирования

<a id="p100148"></a>[Рисунки А.5](#p100152) и [А.6](#p100154) являются примерами профилей распределения элементов по глубине, полученных с помощью ОЭС.

<a id="p100149"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_4.jpg) 

<a id="p100150"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_5.jpg) - C; ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_6.jpg) - O; ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_7.jpg) - Si

<a id="p100151"></a>По оси X отложено время (в секундах), по оси Y отложено
число отсчетов (источник: С. Уайт, Национальный институт
стандартов и технологий США)

<a id="p100152"></a>Рисунок А.5 - Полученный с помощью ОЭС профиль распределения
элементов по глубине в слое SiO2, использованном
для калибровки скорости распыления ионами аргона. Отсчеты
взяты из высоты пиков в спектре, полученном
путем дифференцирования



<a id="p100153"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_8.png) 

<a id="p100154"></a>Рисунок А.6 - Монтаж спектров, показывающий профили
распределения элементов по глубине, полученные с помощью ОЭС
из двуокиси кремния на кремнии для кислорода (O KLL, спектры
в левой части рисунка) и кремния (Si LVV, спектры
в центре рисунка).
Каждый спектр Оже-электронов соответствует определенному
значению координаты вглубь образца, определяемому временем
травления образца. Время травления указано в правой части
рисунка (изображение воспроизведено
из "The CASA Cookbook" [[6]](#p100190))

<a id="p100155"></a>[Рисунок А.7](#p100157) является примером набора карт состава, полученных с помощью ОЭС.

<a id="p100156"></a> ![6 Передача данных заказчику](https://i.bukva.ai/jAWmKL6Q/img_9.jpg) 

<a id="p100157"></a>Рисунок А.7 - Карты, полученные с помощью ОЭС,
и изображение, полученное во вторичных электронах,
записанные с вытравленного ионами кратера, находящегося
на краю канавки окисления в многослойном образце GaAs/AlGaAs
(источник: С. Уайт, Национальный институт стандартов
и технологий, США)





<a id="p100158"></a>Приложение ДА
(справочное)

<a id="p100159"></a>**СВЕДЕНИЯ О СООТВЕТСТВИИ ССЫЛОЧНЫХ МЕЖДУНАРОДНЫХ СТАНДАРТОВ**
**НАЦИОНАЛЬНЫМ СТАНДАРТАМ**

<a id="p100160"></a>Таблица ДА.1


<table>
<colgroup><col width="28%"><col width="18%"><col width="54%"></colgroup>
<tr><td><a id="p100161"></a>Обозначение ссылочного международного стандарта</td><td><a id="p100162"></a>Степень соответствия</td><td><a id="p100163"></a>Обозначение и наименование соответствующего национального стандарта</td></tr>
<tr><td><a id="p100164"></a>ISO 17973</td><td><a id="p100165"></a>-</td><td><a id="p100166"></a><a href="#p100173">&lt;*&gt;</a></td></tr>
<tr><td><a id="p100167"></a>ISO 17974</td><td><a id="p100168"></a>-</td><td><a id="p100169"></a><a href="#p100173">&lt;*&gt;</a></td></tr>
<tr><td><a id="p100170"></a>ISO 18115-1</td><td><a id="p100171"></a>-</td><td><a id="p100172"></a><a href="#p100173">&lt;*&gt;</a></td></tr>
<tr><td colspan="3"><a id="p100173"></a>&lt;*&gt; Соответствующий национальный стандарт отсутствует. До его принятия рекомендуется использовать перевод на русский язык данного международного стандарта.</td></tr>
</table>







## <a id="p100174"></a>БИБЛИОГРАФИЯ



<table>
<colgroup><col width="6%"><col width="21%"><col width="73%"></colgroup>
<tr><td><a id="p100175"></a>[1]</td><td><a id="p100176"></a>ISO/TR 15969</td><td><a id="p100177"></a>Surface chemical analysis - Depth profiling - Measurement of sputtered depth</td></tr>
<tr><td><a id="p100178"></a>[2]</td><td><a id="p100179"></a>ISO 18116</td><td><a id="p100180"></a>Surface chemical analysis - Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis</td></tr>
<tr><td><a id="p100181"></a>[3]</td><td><a id="p100182"></a>ISO 18117</td><td><a id="p100183"></a>Surface chemical analysis - Handling of specimens prior to analysis</td></tr>
<tr><td><a id="p100184"></a>[4]</td><td><a id="p100185"></a>ISO/TR 18394</td><td><a id="p100186"></a>Surface chemical analysis - Auger electron spectroscopy - Derivation of chemical information</td></tr>
<tr><td><a id="p100187"></a>[5]</td><td><a id="p100188"></a>ISO 20903</td><td><a id="p100189"></a>Surface chemical analysis - Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy - Methods used to determine peak intensities and information required when reporting results</td></tr>
<tr><td><a id="p100190"></a>[6]</td><td colspan="2"><a id="p100191"></a>Fairley N., and Carrick A., The CASA Cookbook - Part 1: Recipes for XPS Data Processing, Acolyte Science, Knutsford, UK, 2005, p. 313, ISBN 9780954953300</td></tr>
</table>







<table>
<colgroup><col width="32%"><col width="68%"></colgroup>
<tr><td><a id="p100192"></a>УДК 543.428.2:006.354</td><td><a id="p100193"></a>ОКС 71.040.40</td></tr>
<tr><td colspan="2"><a id="p100194"></a>Ключевые слова: химический анализ поверхности, Оже-электронная спектроскопия, представление данных</td></tr>
</table>




<a id="p100195"></a>

---